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真空镀膜和光学镀膜有什么区别
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- 发布时间：2022-10-14 09:12
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【概要描述】真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀零件表面蒸发凝结形成薄膜的方法。比如真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层金属膜的过程，光学零件表面镀膜的目的是降低或增加对光的反射、分束、分色、滤波和偏振的要求。常用的涂覆方法包括真空涂覆(一种物理涂覆)和化学涂覆。
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
【概要描述】真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀零件表面蒸发凝结形成薄膜的方法。比如真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层金属膜的过程，光学零件表面镀膜的目的是降低或增加对光的反射、分束、分色、滤波和偏振的要求。常用的涂覆方法包括真空涂覆(一种物理涂覆)和化学涂覆。
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真空镀膜是指在高真空下加热金属或非金属材料，使其在被镀零件表面蒸发凝结形成薄膜的方法。比如真空镀铝、真空镀铬等。光学镀膜是指在光学零件表面镀上一层金属膜的过程，光学零件表面镀膜的目的是降低或增加对光的反射、分束、分色、滤波和偏振的要求。常用的涂覆方法包括真空涂覆(一种物理涂覆)和化学涂覆。
真空镀膜和光学镀膜的原理区别如下：1、真空镀膜是真空应用的一个重要方面。它以真空技术为基础，采用物理或化学方法，吸收了电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频、磁控管等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供了一种薄膜制备的新技术。简单来说，就是在真空中蒸发或溅射金属、合金或化合物，使其固化沉积在被镀膜物体上的方法。2、光干涉在薄膜光学中应用广泛。光学薄膜技术常用的方法是在玻璃基底上用真空溅射的方法镀制薄膜，一般用来控制基底对入射光束的反射率和透射率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，需要镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或抗反射膜。
真空镀膜和光学镀膜方法和材料的区别：
真空镀膜的方法和材料：(1)真空蒸发：将待镀膜的基片清洗干净，放入镀膜室。抽真空后，将膜材料加热到高温，使蒸汽达到13.3Pa左右，蒸汽分子飞向衬底表面，凝结形成薄膜。(2)阴极溅射：将待镀基底放在阴极的反面，向真空室中通入惰性气体，保持压强在1.33~13.3Pa左右，然后将阴极接在2000V DC电源上，激发辉光放电。带正电荷的氩离子撞击阴极，使其喷射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积在基底上形成薄膜。(3)化学气相沉积：通过热分解选定的金属化合物或有机化合物获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀：离子镀本质上是真空蒸发和阴极溅射的有机结合，兼具两者的工艺特点。
光学镀膜法的材料：(1)氟化镁：无色四方粉末，纯度高，可提高光学镀膜的透过率，不会出现断裂点。(2)二氧化硅：无色透明晶体、熔点高、硬度高、化学稳定性好、纯度高，用其制备的高质量二氧化硅涂层蒸发状态好，无崩点。(3)氧化锆：白色重晶态、折射率高、耐高温、化学性质稳定、纯度高，它可以用来制备高质量的氧化锆涂层，而不崩溃。
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